在半導體器件制造、電子元件鍍膜、光學鏡片鍍膜、光學薄膜器件制造以及其它薄膜類材料改性等領域使用到磁控濺射、真空蒸鍍等設備。高溫金屬原子在薄膜表面沉積時需要及時將薄膜上多余的熱量均勻地帶走。普通冷卻輥溫度不均勻，且冷卻效果欠佳，容易造成薄膜受熱軟化、起皺，影響產品質量，嚴重時將使得產品不能長時連續(xù)生產，產品的成品率和合格率達不能合格水平，產品的工藝成本將大幅上升。上海聯(lián)凈均溫無結露冷卻輥采用特殊的內部結構，傳熱速率更快，且能夠將工作區(qū)域的熱量快速傳遞到兩端，讓輥面溫度始終維持在±1℃以內，確保產品一致性良好。

2 磁控濺射

2  磁控濺射+蒸鍍

上述工藝中，冷卻輥的溫度均勻性十分關鍵。上海聯(lián)凈均溫無結露冷卻輥是理想的選擇，目前已廣泛應用于此類要求的許多個關鍵工序。

均溫無結露冷卻輥技術規(guī)格：

* 直徑：100~2000mm

* 長度：500~2500mm

* 輥筒材質：SUS304 或者其它牌號不銹鋼

* 表面處理：鍍硬鉻，硬度HRC 50~60，粗糙度Ra 0.01~0.05

* 工作溫度：－30℃ ~ 80℃

* 溫度精度：±1℃

注：各項參數(shù)可根據(jù)客戶需要訂制。